电容式结构的发光二极管集成芯片及其制备方法

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专利名称 电容式结构的发光二极管集成芯片及其制备方法 申请号 CN201410817479.8 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN104465921A 公开(授权)日 2015.03.25 申请(专利权)人 中国科学院半导体研究所 发明(设计)人 詹腾;马骏;刘志强;伊晓燕;王军喜;李晋闽 主分类号 H01L33/14(2010.01)I IPC主分类号 H01L33/14(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I 专利有效期 电容式结构的发光二极管集成芯片及其制备方法 至电容式结构的发光二极管集成芯片及其制备方法 法律状态 著录事项变更 说明书摘要 本发明公开了一种电容式结构的发光二极管集成芯片及其制备方法。该芯片包括外部连接端口,具有导电能力的透明电极层,绝缘介质填充层以及发光光源发光二极管芯片。通过将一定数量的发光二极管芯片与绝缘介质层形成电容器结构,在绝缘电介质层两层为导电介质层,由此构成电容式结构,整个结构通过电极上的引线Pad点与外部连接端口连接。该发光二极管集成芯片采用新颖的驱动方式和芯片结构,采用高介电常数绝缘介质材料,芯片可由交流电源直接驱动,制作简单,成本低。

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