| 专利名称 | 一种高光谱成像仪外场光谱辐射定标方法及装置 | 申请号 | CN201410705891.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104406696A | 公开（授权）日 | 2015.03.11 | 申请（专利权）人 | 国家海洋环境预报中心;中国科学院遥感与数字地球研究所 | 发明（设计）人 | 段依妮;张立福;吴太夏;黄长平;张红明 | 主分类号 | G01J3/28(2006.01)I | IPC主分类号 | G01J3/28(2006.01)I | 专利有效期 | 一种高光谱成像仪外场光谱辐射定标方法及装置 至一种高光谱成像仪外场光谱辐射定标方法及装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种高光谱成像仪外场光谱辐射定标方法及装置，包括：根据实验室光谱辐射定标初值进行第一次外场光谱定标，得到高光谱成像仪的第一中心波长λ1和第一带宽FWHM1；根据第一次外场光谱定标的结果进行第一次外场绝对辐射定标，得到第一次外场绝对辐射定标的增益G1和偏置b1；根据第一次外场绝对辐射定标的结果进行第二次外场光谱定标，得到高光谱成像仪的第二中心波长λ2和第二带宽FWHM2；根据第二次外场光谱定标的结果进行第二次外场绝对辐射定标，得到第二次外场绝对辐射定标的增益G2和偏置b2；循环进行n轮光谱辐射定标直到得到的外场光谱辐射定标结果符合预设阈值。本发明能够有效提高数据利用效率，极大降低外场实验成本，提高外场光谱定标和绝对辐射定标的精度。 |
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