| 专利名称 | 一种包含双氧化剂的GST化学机械抛光液及其制备方法和用途 | 申请号 | CN201410610365.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104403570A | 公开（授权）日 | 2015.03.11 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所;上海新安纳电子科技有限公司 | 发明（设计）人 | 闫未霞;刘卫丽;宋志棠 | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I | IPC主分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 专利有效期 | 一种包含双氧化剂的GST化学机械抛光液及其制备方法和用途 至一种包含双氧化剂的GST化学机械抛光液及其制备方法和用途 | 法律状态 | 专利申请权、专利权的转移 | 说明书摘要 | 本发明涉及化学机械抛光领域，特别是涉及一种可有效应用于相变材料GST的双氧化剂化学机械抛光液及其制备方法和用途。本发明提供一种双氧化剂的GST化学机械抛光液，其原料按重量份计，包括如下组分：抛光颗粒0.2-30份；氧化剂A0.01-5份；氧化剂B0.01-5份；表面活性剂0.01-4份；水性介质85-95份；pH调节剂适量；所述双氧化剂化学机械抛光液的pH值的范围为2-6。本发明发明人在相变材料抛光液中添加双氧化剂，利用两种氧化剂的协同作用，实现三种元素的全部氧化，解决抛光之后残留问题，保证抛光之后三种元素的比例保持不变，相变材料能够保持具有与抛光之前相同的相变性能。 |
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