| 专利名称 | 一种波前调制暗场自适应光学视网膜成像仪 | 申请号 | CN201410642859.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104352214A | 公开（授权）日 | 2015.02.18 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 张雨东;赵军磊;戴云;杨金生;肖飞;康健;魏淩;赵豪欣;范真涛 | 主分类号 | A61B3/12(2006.01)I | IPC主分类号 | A61B3/12(2006.01)I;A61B3/14(2006.01)I | 专利有效期 | 一种波前调制暗场自适应光学视网膜成像仪 至一种波前调制暗场自适应光学视网膜成像仪 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种波前调制暗场自适应光学视网膜成像仪，属于视网膜成像技术领域。其特征是：在成像光路中的瞳面共轭位置处加入空间光调制器，并在其后光路中的视网膜特定层的共轭位置(焦面)处加入匹配滤波器(滤波光阑)。其工作原理是：通过空间光调制器调制瞳面波前改变焦面处的衍射光场分布，并在焦面处加入匹配的滤波器滤除来自视网膜特定层的衍射光，实现对视网膜该层的暗场成像，这提高了其相邻层结构的成像对比度。 |
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