| 专利名称 | 一种逆向热蒸发银反射膜加介质保护膜层的制备方法 | 申请号 | CN201410614079.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104328378A | 公开（授权）日 | 2015.02.04 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 裴文俊;刘洪祥 | 主分类号 | C23C14/26(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/26(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I | 专利有效期 | 一种逆向热蒸发银反射膜加介质保护膜层的制备方法 至一种逆向热蒸发银反射膜加介质保护膜层的制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种逆向热蒸发银反射膜加介质保护膜的制备方法，采用的膜层序列为Sub/CrNx/Ag/CrNx/SiOx/Air，制备过程中所有的蒸发源位于镜面上方，逆向热蒸发；承载铬(Cr)材料的主要部件为钨杆，承载银(Ag)材料的主要部件为钨丝环，保护膜材料为一氧化硅(SiO)，装载于钽蒸发舟中；在氮气(N2)环境中蒸发Cr形成CrNx，在氧气(O2)环境中蒸发SiO形成SiOx。本发明具有工艺简单、操作方便、设备与材料成本低的优点，能够规避大型光学元件翻面带来的风险。 |
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