| 专利名称 | 一种基于模板诱导龟裂效应的纳流道制备方法 | 申请号 | CN201410608038.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104326433A | 公开（授权）日 | 2015.02.04 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 邓启凌;张满;史立芳;秦燕云;曹阿秀;庞辉 | 主分类号 | B81B1/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B81B1/00(2006.01)I;B01L3/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种基于模板诱导龟裂效应的纳流道制备方法 至一种基于模板诱导龟裂效应的纳流道制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种基于模板诱导龟裂效应的纳流道制备方法，属于微纳米结构加工和生物化学领域，按照目标纳流道的分布，设计加工具有纳米微尖的图案化结构作为诱导模板；选择抛光的基片作为纳流道的基底层，在其表面涂覆一层高体积收缩率的高分子聚合物材料；将诱导模板对准压印在聚合物材料膜层上，并对聚合物材料进行固化；由于聚合物材料在固化交联时的体积收缩，微尖纳米结构作为龟裂的外部诱导点，当材料满足体积收缩力大于内部应力时，诱导聚合物材料在固化过程中发生龟裂效应，沿着微尖结构图案形成龟裂通道，实现纳流道的制备。本发明基于纳米压印过程和模板诱导龟裂效应，操作简单、成本低廉、结构可控，在纳米科学和技术研究领域具有广阔的应用前景。 |
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