| 专利名称 | 极紫外光刻系统中与杂散光有关的镜面加工误差分析方法 | 申请号 | CN201410593209.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104317168A | 公开（授权）日 | 2015.01.28 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 王君;王丽萍;金春水;谢耀 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 极紫外光刻系统中与杂散光有关的镜面加工误差分析方法 至极紫外光刻系统中与杂散光有关的镜面加工误差分析方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 |
极紫外光刻系统中与杂散光有关的镜面加工误差分析方法，属于光学设计仿真分析领域，解决了在极紫外光刻系统中与杂散光紧密相关的扩展中频粗糙度摄取无统一测量标准或求解方法而导致镜面加工误差分析较低的问题。该方法为：初始暗岛尺寸的最小值和最大值，取其平均值为初始暗岛尺寸进入光刻仿真，判断杂散光水平与仿真杂散光阈值的关系直到两者相等，得到最佳暗岛尺寸；扩展中频粗糙度的空间周期为Λ，对应的空间频率 |
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