| 专利名称 | 一种滚筒式纳米压印设备 | 申请号 | CN201420556034.4 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN204116806U | 公开（授权）日 | 2015.01.21 | 申请（专利权）人 | 中国科学院深圳先进技术研究院 | 发明（设计）人 | 庞俊超;陈艳 | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种滚筒式纳米压印设备 至一种滚筒式纳米压印设备 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型公开了一种滚筒式纳米压印设备，包括底座，底座上间隔设置有两个支架，两个支架之间设置有可转动的对辊结构、以及扣设于对辊结构上的氮气罩；对辊结构包括上下对应且相互之间间隙可调的第一压辊和第二压辊，第二压辊的外侧设置有具有图案的模版；氮气罩的侧面设置有与第一压辊和第二压辊之间的出口对应的紫外灯；其不仅能够满足大尺寸压印，又能够适应不同厚度的样品进行压印，适用范围广，效率高。 |
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