一种光学显微测量孔径变形的地应力测试方法

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专利名称 一种光学显微测量孔径变形的地应力测试方法 申请号 CN201410555141.X 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN104279975A 公开(授权)日 2015.01.14 申请(专利权)人 中国科学院武汉岩土力学研究所 发明(设计)人 王川婴;韩增强;胡胜 主分类号 G01B11/16(2006.01)I IPC主分类号 G01B11/16(2006.01)I;G01L1/24(2006.01)I 专利有效期 一种光学显微测量孔径变形的地应力测试方法 至一种光学显微测量孔径变形的地应力测试方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明公开了一种光学显微测量孔径变形的地应力测试方法。根据孔径变形的地应力测试原理,提出了多触针孔径变形感知结构的设计方案,实现了孔径变形的可视化和数字化;利用光学显微成像技术,解决了微小孔径变形的可视观察和数字量测的技术难题,实现了孔径变形的光学显微测量;通过对孔径变形原理的理论分析,推导出基于光学显微测量孔径变形的地应力解算公式,并针对相关技术的参数和布局设计进行优化分析,建立相应的软件算法。本发明解决了深孔和超深孔中地应力测试的主要技术难题,使地应力测试技术得到了突破性和实质性的进展,具有显著的科学意义和经济实用价值。

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