| 专利名称 | 基于显微镜的激光双调制反射光谱检测系统 | 申请号 | CN201420462978.5 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN204086126U | 公开（授权）日 | 2015.01.07 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 发明（设计）人 | 王玘;袁小文;孙聊新;张波;陆卫 | 主分类号 | G01N21/25(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N21/25(2006.01)I | 专利有效期 | 基于显微镜的激光双调制反射光谱检测系统 至基于显微镜的激光双调制反射光谱检测系统 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本专利公开了一种基于显微镜的激光双调制反射光谱检测系统，它包括一根单模光纤、一套成像放大系统、一个半透半反片、一套激光扩束系统、一个低频斩波器、一台激光器、一套显微镜系统和一个高频斩波器。纳米材料激光双调制反射光谱测量由以下部件实现：根据激光双调制工作原理，将高频斩波器调制后的白光源经过显微镜照明系统作为探测光，低频斩波器调制后的激光扩束后作为泵浦光，然后探测光和泵浦光经过同一显微物镜作用于样品表面，单模光纤作为视场光阑放置在二次放大像面处，通过电机控制对样品面进行二维扫描，获得相关光学信号。本专利实现了纳米量级区域的光谱探测，有效地消除了背景反射光的干扰，可以应用于微纳光学领域的光学特征光谱的测量。 |
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