| 专利名称 | 一种基于中心离轴型微透镜列阵的激光光束匀化方法 | 申请号 | CN201410531843.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104267504A | 公开（授权）日 | 2015.01.07 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 曹阿秀;史立芳;邓启凌;张满;庞辉;秦燕云 | 主分类号 | G02B27/09(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B27/09(2006.01)I | 专利有效期 | 一种基于中心离轴型微透镜列阵的激光光束匀化方法 至一种基于中心离轴型微透镜列阵的激光光束匀化方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种基于中心离轴型微透镜列阵的激光光束匀化方法，涉及激光照明、投影和加工等激光整形应用领域。本发明针对微透镜列阵实现激光光束整形匀化时，由于微透镜列阵的周期性和激光的相干性，在目标面产生周期性点阵，降低了光束匀化效果的问题，提出一种利用中心离轴型微透镜列阵结构消除点阵效应以实现激光光束匀化的方法。通过设计微透镜列阵中的子透镜单元位置，获取子透镜单元中心离轴分布的微透镜列阵，利用离轴量的随机性打破微透镜列阵的周期性，消除目标面处的相干条纹，实现高均匀性的光斑分布。本发明能够有效消除激光光束整形中的点阵效应，是一种实用的光束整形方法，具有较大的应用前景。 |
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