| 专利名称 | 一种光栅刻线弯曲自动控制校正方法 | 申请号 | CN201410427862.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104237987A | 公开（授权）日 | 2014.12.24 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 李晓天;于海利;唐玉国;杨超;刘兆武;齐向东 | 主分类号 | G02B5/18(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B5/18(2006.01)I;B26D3/08(2006.01)I | 专利有效期 | 一种光栅刻线弯曲自动控制校正方法 至一种光栅刻线弯曲自动控制校正方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种光栅刻线弯曲自动控制校正方法，涉及光栅刻划技术领域，解决现有光栅刻线弯曲校正技术需要采用机械设计方法对光栅刻划机机械结构进行多次反复的改进设计和安装调试，存在设计过程复杂、效率低且刻线弯曲校正效果较差等问题，本发明包括：S101.建立光栅平均刻线弯曲数学模型；S102.进行光栅预刻划，获得预刻划光栅，计算所述预刻划光栅的光栅平均刻线弯曲；S103.设计光栅刻划机的自动控制方案；S104.建立光栅刻划机工作台位移补偿数学模型；S105.采用自动控制法校正光栅刻线弯曲。所述光栅刻线弯曲自动控制校正方法可以有效降低光栅刻线弯曲，改善光栅衍射波前质量且有助于提高光栅刻划机运行精度和工作效率。 |
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