| 专利名称 | 用于清洗受污染光学元件的氢原子收集装置与清洗方法 | 申请号 | CN201410345343.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104226637A | 公开（授权）日 | 2014.12.24 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 卢启鹏;宋源;彭忠琦;龚学鹏;王依 | 主分类号 | B08B7/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B08B7/00(2006.01)I | 专利有效期 | 用于清洗受污染光学元件的氢原子收集装置与清洗方法 至用于清洗受污染光学元件的氢原子收集装置与清洗方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种用于清洗受污染光学元件的氢原子收集装置，属于清洗光学元件表面污染的技术领域。解决现有的氢原子收集方法收集率低的问题。该装置包括：氢原子发生器、石英椭球镜收集腔、加热带和样品夹，所述的氢原子发生器与石英椭球镜收集腔的一端连接，且氢原子发生器的出气口设置于石英椭球镜收集腔的一个焦点处，样品夹设置在样品夹支架上，样品夹支架与石英椭球镜收集腔的另一端连接，且样品夹中心位置设置于石英椭球镜收集腔的另外一个焦点处，所述的加热带设置在石英椭球镜收集腔的外表面。本发明还提供基于上述装置清洗受污染光学元件的方法，该方法氢原子收集效率高、清洗速率快。 |
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