| 专利名称 | 施瓦茨光学系统波像差测量方法 | 申请号 | CN201410455642.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104236855A | 公开（授权）日 | 2014.12.24 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 戴凤钊;王向朝;蔡燕民 | 主分类号 | G01M11/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G01M11/02(2006.01)I | 专利有效期 | 施瓦茨光学系统波像差测量方法 至施瓦茨光学系统波像差测量方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 |
一种施瓦茨光学系统波像差测量方法，该方法基于光栅横向剪切干涉测量装置，测量时将待测施瓦茨光学系统置于所述光栅横向剪切干涉测量装置的针孔掩模和剪切光栅之间，测量步骤如下：①获取x方向和y方向的横向剪切干涉图；②获取x方向和y方向的差分波前；③获取待测波前的环Zernike多项式系数。本发明的优点是将差分波前拟合得到差分环Zernike多项式，直接得到待测环形波前的环Zernike多项式系数，通过所述的前J项环Zernike多项式系数 |
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