| 专利名称 | 一种实现镁合金表面微弧氧化膜原位封孔的溶液及制备微弧氧化膜的方法 | 申请号 | CN201310223968.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104213175A | 公开（授权）日 | 2014.12.17 | 申请（专利权）人 | 中国科学院金属研究所 | 发明（设计）人 | 宋影伟;单大勇;韩恩厚 | 主分类号 | C25D11/30(2006.01)I | IPC主分类号 | C25D11/30(2006.01)I | 专利有效期 | 一种实现镁合金表面微弧氧化膜原位封孔的溶液及制备微弧氧化膜的方法 至一种实现镁合金表面微弧氧化膜原位封孔的溶液及制备微弧氧化膜的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种实现镁合金表面微弧氧化膜原位封孔的溶液及制备微弧氧化膜的方法，属于镁合金表面处理技术。将氟钛酸盐、多聚磷酸盐、多聚偏磷酸盐溶解于蒸馏水中，然后加入氢氧化物出现大量白色胶状悬浮颗粒，再加入有机添加剂，并调节其pH值至5～10，静置一天后获得所述溶液，将镁合金工件置于该溶液中进行微弧氧化制得微弧氧化膜。本发明中的电解液成分会发生水解反应生成TiO2溶胶颗粒，参与微弧氧化成膜过程，使所形成的微弧氧化膜的主要成分为化学稳定性好的含钛氧化物；同时利用膜层物质凝固点不同的原理，使膜中的微孔在成膜过程被自动封闭，节省了后续的封孔处理步骤。 |
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