| 专利名称 | 二维跟踪转台超360°旋转限位机构 | 申请号 | CN201420296978.2 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN204007668U | 公开（授权）日 | 2014.12.10 | 申请（专利权）人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 高雄;王振宇;李治国;谢友金;黄静;崔凯 | 主分类号 | G01D11/16(2006.01)I | IPC主分类号 | G01D11/16(2006.01)I | 专利有效期 | 二维跟踪转台超360°旋转限位机构 至二维跟踪转台超360°旋转限位机构 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本实用新型属于光学测量技术领域，具体涉及一种二维跟踪转台超360°旋转限位机构。该机构包括设置在旋转体上的限位凸起以及设置在固定基座上的用于挡住限位凸起从而阻止旋转体作旋转运动的限位组件，其改进之处是：限位组件包括两个位于限位凸起运动轨迹上并与固定基座铰接安装的旋转挡块；两个旋转挡块分别只能朝一个方向旋转且旋转方向相反，从而限制旋转体的转动。该机构的设计解决了二维跟踪转台超360°旋转时，现有限位机构的复杂性和体积的大幅增加，给装配调试带来很大困难的问题。 |
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