| 专利名称 | 一种基于哈特曼波前检测原理的检焦方法 | 申请号 | CN201410479415.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104198164A | 公开（授权）日 | 2014.12.10 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 朱咸昌;胡松;赵立新 | 主分类号 | G01M11/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G01M11/02(2006.01)I | 专利有效期 | 一种基于哈特曼波前检测原理的检焦方法 至一种基于哈特曼波前检测原理的检焦方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种基于哈特曼波前检测原理的检焦方法，其作用是实时检测光刻机系统的硅片位置，完成硅片的高精度调平和调焦。利用微透镜阵列对携带有硅片位置信息的波前进行检测，根据哈特曼波前检测原理，微透镜阵列的各个子单元将球面波波前分割，并成像于各自的焦面上。当硅片位于焦面位置时，微透镜阵列入射波前为平面波，衍射光斑位于微透镜阵列各个子单元的焦点上；当硅片存在离焦时，微透镜阵列入射波前为球面波，衍射光斑在微透镜阵列焦面上产生偏移。根据哈特曼波前检测原理，通过微透镜阵列对平面和球面波前成像光斑偏移，即可完成球面波前检测，从而完成硅片离焦测量。该检焦系统结构简单、精度和效率较高，适用于各类光刻机的高精度、实时性检焦测量。 |
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