| 专利名称 | 基于线迹扫描二维近场成像的反向散射截面测量方法 | 申请号 | CN201410432104.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104199026A | 公开（授权）日 | 2014.12.10 | 申请（专利权）人 | 中国科学院电子学研究所 | 发明（设计）人 | 吕晓德;邢曙光;丁赤飚;林宽 | 主分类号 | G01S13/89(2006.01)I | IPC主分类号 | G01S13/89(2006.01)I;G06F19/00(2011.01)I;G01S7/40(2006.01)I;G01S7/36(2006.01)I | 专利有效期 | 基于线迹扫描二维近场成像的反向散射截面测量方法 至基于线迹扫描二维近场成像的反向散射截面测量方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 |
本发明提供了一种基于线迹扫描二维近场成像的反向散射截面测量方法。该反向散射截面测量方法包括：在所选定的频率范围内，收发天线以预设的步进频率沿设定的扫描线迹进行扫描，由矢量网络分析仪获得线迹散射测量点上放置待测目标前后的散射测量数据；对线迹散射测量点上放置待测目标前后的散射测量数据进行背景对消；选取最优聚焦的散射图像P；由最优聚焦的二维散射图像P提取目标的有效散射系数 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障