| 专利名称 | 一种应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜 | 申请号 | CN201410477962.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104199175A | 公开（授权）日 | 2014.12.10 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 朱咸昌;胡松;赵立新 | 主分类号 | G02B13/06(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B13/06(2006.01)I;G02B13/22(2006.01)I;G02B13/18(2006.01)I;G02B13/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜 至一种应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜，其作用是把投影光刻机掩模版上的图形经过成像复制后转移到硅片上。投影曝光物镜是光刻机的核心部件，决定了光刻机的主要性能。本发明所涉及的大视场投影曝光物镜由26片透镜组成，物镜分辨力1.5μm，放大倍率为-1.25倍，曝光视场132mm×132mm。本投影曝光物镜采用4面非球面校正系统场曲、畸变和波像差；同时，选用对i线(365nm)透过率较高的玻璃材料，提高系统光学透过率，满足大视场投影光刻机的高精度及高产率需求。 |
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