一种基于光线追踪器的薄膜干涉效果绘制方法

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专利名称 一种基于光线追踪器的薄膜干涉效果绘制方法 申请号 CN201410393099.6 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN104183007A 公开(授权)日 2014.12.03 申请(专利权)人 中国科学院软件研究所 发明(设计)人 郑昌文;吴付坤 主分类号 G06T15/06(2011.01)I IPC主分类号 G06T15/06(2011.01)I;G06T17/00(2006.01)I 专利有效期 一种基于光线追踪器的薄膜干涉效果绘制方法 至一种基于光线追踪器的薄膜干涉效果绘制方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 一种基于光线追踪器的薄膜干涉效果绘制方法,应用多光束干涉方程求解多层薄膜混合反射比和透射比,其中单层薄膜表面反射系数和透射系数由菲涅尔公式决定,在薄膜内部的折射角遵从斯涅尔定律;考虑一些薄膜表面因粗糙性产生反射或透射光分布的不规则性,引入粗糙表面散射系数,修正薄膜反射或透射比,模拟彩色高光、各向异性等复杂的光学效果;基于光线追踪器成像机理,构造物理光学与几何光学之间的联系纽带,并生成完整的散射公式。本发明有效提升了现有光线追踪器绘制波动效果的能力;也可继续以插件的形式集成入经典的3D建模软件Maya中,使用户直接通过建模软件,获取所需要的彩色波动效果,进一步提高了以Maya为代表的建模软件的绘制能力,具有很高的应用价值。

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