| 专利名称 | 多环形自适应抛光磨头 | 申请号 | CN201410390349.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104175192A | 公开（授权）日 | 2014.12.03 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 张健;马占龙;代雷;彭利荣;隋永新;杨怀江 | 主分类号 | B24B13/01(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B13/01(2006.01)I | 专利有效期 | 多环形自适应抛光磨头 至多环形自适应抛光磨头 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种多环形自适应抛光磨头，属于光学冷加工技术领域。解决了现有非球面抛光技术中磨头表面与工件表面不匹配、无法抑制中频误差的问题。本发明的多环形自适应抛光磨头包括法兰轴、多环刚性基底、柔性环和抛光环，其中，法兰轴的底端固定在多环刚性基底的顶端，多环刚性基底的底端设有具有相同圆心的多个圆环形凸台，柔性环可以柔性变形，柔性环由多个同心圆环组成，柔性环的顶端固定在多个圆环形凸台上，抛光环由多个同心圆环组成，抛光环的顶端固定在柔性环的底端上。本发明的磨头能够通过柔性环的柔性变形，自动补偿由机床、装调或工件本身带来的误差，实现非球面的高质量抛光。 |
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