| 专利名称 | 用于超光谱成像系统中的消二级光谱集成滤光片 | 申请号 | CN201420310947.8 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN203965653U | 公开（授权）日 | 2014.11.26 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 发明（设计）人 | 段微波;刘银年;余德明;李大琪;陈刚 | 主分类号 | G02B5/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B5/20(2006.01)I | 专利有效期 | 用于超光谱成像系统中的消二级光谱集成滤光片 至用于超光谱成像系统中的消二级光谱集成滤光片 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本专利公开了一种用于超光谱成像系统中的消二级光谱集成滤光片，通过在同一光学基片划分若干区域制备相应谱段的前截止消二级光谱滤光片单元，实现超光谱光学成像系统宽波段范围内，由于光栅分光引起的二级光谱的抑制与消除。其中，集成滤光片区域划分的个数以及各滤光片单元的光谱抑制范围由成像光学系统的光谱覆盖范围来确定。为保证成像光谱的连续性和各子滤光片光谱独立性，采用高精度掩模技术配合各滤光片单元的膜层制备。该消二级光谱集成滤光片具有结构紧凑、信噪比高、能量高效利用等特点。 |
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