| 专利名称 | 一种光刻机光源的优化方法 | 申请号 | CN201410422502.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104155852A | 公开（授权）日 | 2014.11.19 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 王磊;王向朝;李思坤;闫观勇;杨朝兴 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F1/76(2012.01)I | 专利有效期 | 一种光刻机光源的优化方法 至一种光刻机光源的优化方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种光刻机光源优化方法，以像素化的光源为粒子，将理想图形与当前光源照明模式下掩模对应的光刻胶像每一点差异的平方和作为目标函数，利用含有线性递减权重和压缩因子的粒子群优化算法，通过更新粒子的速度与位置信息迭代优化光源图形。本发明有效提高了光刻成像质量，具有原理简单、易于实现、收敛速度快的优点。 |
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