| 专利名称 | 一种利用原子层沉积技术制作微通道板功能层的方法 | 申请号 | CN201410363192.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104152868A | 公开（授权）日 | 2014.11.19 | 申请（专利权）人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 朱香平;邓国宝 | 主分类号 | C23C16/44(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C16/44(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I;C23C16/40(2006.01)I | 专利有效期 | 一种利用原子层沉积技术制作微通道板功能层的方法 至一种利用原子层沉积技术制作微通道板功能层的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种利用原子层沉积技术制作微通道板功能层的方法，以克服微通道板利用传统氢还原技术制备功能层的固有缺陷，解决微通道板功能层制造复杂，性能不稳定，寿命不长等难题，制造出附着力强、表面光滑、厚度均匀、组成成分纯度高的电阻层和发射层，提高微通道板的性能稳定性，延长其工作寿命。 |
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