一种中低温混合导体透氧膜及其制备方法

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专利名称 一种中低温混合导体透氧膜及其制备方法 申请号 CN201410410200.4 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN104150903A 公开(授权)日 2014.11.19 申请(专利权)人 中国科学院上海硅酸盐研究所 发明(设计)人 占忠亮;李西祥;孟燮;吴昊 主分类号 C04B35/50(2006.01)I IPC主分类号 C04B35/50(2006.01)I;C04B35/01(2006.01)I;C04B35/622(2006.01)I;C04B38/06(2006.01)I 专利有效期 一种中低温混合导体透氧膜及其制备方法 至一种中低温混合导体透氧膜及其制备方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 一种中低温混合导体透氧膜及其制备方法,所述中低温混合导体透氧膜包括致密透氧层、位于所述致密透氧层一侧的第一多孔层、以及位于所述致密透氧层另一侧的第二多孔层,其中,所述致密透氧层由具有钙钛矿型结构的透氧膜材料制成,所述第一多孔层和/或第二多孔层由透氧膜材料和/或活性材料制成。

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