存储器件及其制造方法和存取方法

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专利名称 存储器件及其制造方法和存取方法 申请号 CN201310160970.3 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN104134668A 公开(授权)日 2014.11.05 申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 朱慧珑 主分类号 H01L27/115(2006.01)I IPC主分类号 H01L27/115(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L21/8247(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I 专利有效期 存储器件及其制造方法和存取方法 至存储器件及其制造方法和存取方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本申请公开了一种存储器件及其制造方法和存取方法。一示例存储器件可以包括:衬底;在衬底上形成的背栅;晶体管,包括:在衬底上在背栅的相对两侧形成的鳍;以及在衬底上形成的栅堆叠,所述栅堆叠与鳍相交;以及在背栅的底面和侧面上形成的背栅介质层,其中,在栅堆叠的一侧,背栅介质层在面对鳍的区域处具有减薄部分。

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