存储器件及其制造方法和存取方法

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专利名称 存储器件及其制造方法和存取方法 申请号 CN201310138554.3 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN104112748A 公开(授权)日 2014.10.22 申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 朱慧珑 主分类号 H01L27/108(2006.01)I IPC主分类号 H01L27/108(2006.01)I;H01L21/8242(2006.01)I;G11C11/407(2006.01)I 专利有效期 存储器件及其制造方法和存取方法 至存储器件及其制造方法和存取方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本申请公开了一种存储器件及其制造方法和存取方法。一示例存储器件可以包括:衬底;在衬底上形成的背栅;晶体管,包括:在衬底上在背栅的相对两侧形成的鳍;以及在衬底上形成的栅堆叠,所述栅堆叠与鳍相交;以及夹于背栅与各鳍之间以及背栅与衬底之间的背栅介质层,其中,在栅堆叠的一侧,背栅介质层存在开口,背栅通过该开口与鳍电接触。

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