| 专利名称 | 基于复合涡旋双瓣聚焦光斑的激光直写装置 | 申请号 | CN201410317829.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104111590A | 公开（授权）日 | 2014.10.22 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 余俊杰;周常河;贾伟;卢炎聪;李树斌 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 基于复合涡旋双瓣聚焦光斑的激光直写装置 至基于复合涡旋双瓣聚焦光斑的激光直写装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种基于复合涡旋双瓣聚焦光斑的激光直写装置，主要包括：405纳米蓝光刻写光路、650纳米红光自聚焦伺服光路和控制计算机及相关控制反馈系统。其中405纳米蓝光刻写光路主要包括圆偏振镜片组、1/2波片、电控旋转台、空间光调制器、共焦透镜组、二向色性分束镜、聚焦物镜、自聚焦伺服驱动器、电控二维移动平台等；650纳米红光自聚焦伺服光路主要包括红光收集透镜、柱面镜、四象限探测器。其特点在于在传统的激光直写光路聚焦物镜入射光瞳处加入复合涡旋相位调制，从而在物镜聚焦后场实现双瓣聚焦光斑强度分布。这种双瓣聚焦光斑可以在中等数值孔径聚焦下实现百纳米量级横向分辨率，同时拥有中等数值孔径聚焦下微米级轴向焦深。 |
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