| 专利名称 | 一种薄膜的制备方法 | 申请号 | CN201310128703.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104099586A | 公开（授权）日 | 2014.10.15 | 申请（专利权）人 | 中国科学院理化技术研究所 | 发明（设计）人 | 高云霞;刘静 | 主分类号 | C23C18/31(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C18/31(2006.01)I;C23C18/48(2006.01)I;C23C8/10(2006.01)I;C23C8/24(2006.01)I | 专利有效期 | 一种薄膜的制备方法 至一种薄膜的制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种薄膜的制备方法，先取含有氧化镓或氧化铟的金属混合液涂到基底表面，再通过水流或气体对基底表面进行吹扫，从而在基底表面形成纳米量级薄膜。本发明薄膜的制备方法简单，成本低廉，适宜推广使用，可在热管理、机械、电子、化学、半导体、医药卫生、生物等领域中发挥重要作用。 |
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