| 专利名称 | 一种分子结构中SiH2和SiH1比例可控的全氢聚硅氮烷和由其制备的疏水透明高硬度涂层及其合成方法 | 申请号 | CN201410315655.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104072781A | 公开（授权）日 | 2014.10.01 | 申请（专利权）人 | 中国科学院化学研究所 | 发明（设计）人 | 张宗波;徐彩虹;罗永明 | 主分类号 | C08G77/62(2006.01)I | IPC主分类号 | C08G77/62(2006.01)I;C09D183/16(2006.01)I;C09D7/12(2006.01)I;B05D5/08(2006.01)I | 专利有效期 | 一种分子结构中SiH2和SiH1比例可控的全氢聚硅氮烷和由其制备的疏水透明高硬度涂层及其合成方法 至一种分子结构中SiH2和SiH1比例可控的全氢聚硅氮烷和由其制备的疏水透明高硬度涂层及其合成方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供了分子结构中SiH2和SiH1比例可控的全氢聚硅氮烷的合成方法。由该方法制备的全氢聚硅氮烷，SiH1与SiH2的比例可在4-40范围内调节。在此基础上，本发明提供了采用SiH2和SiH1比例可控的全氢聚硅氮烷来制备疏水透明高硬度涂层的方法。由该方法制备的涂层，其硬度在8H以上，水接触角在90°以上，可见光透过率90％以上。 |
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