| 专利名称 | 一种超薄蒙脱土纳米片及其制备方法和应用 | 申请号 | CN201410315091.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104071798A | 公开（授权）日 | 2014.10.01 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 发明（设计）人 | 王文中;孙松美 | 主分类号 | C01B33/20(2006.01)I | IPC主分类号 | C01B33/20(2006.01)I;B01J23/31(2006.01)I | 专利有效期 | 一种超薄蒙脱土纳米片及其制备方法和应用 至一种超薄蒙脱土纳米片及其制备方法和应用 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种超薄蒙脱土纳米片及其制备方法和应用，所述方法包括：1）将钠基蒙脱土分散于水中形成的钠基蒙脱土第一悬浮液，所得第一悬浮液于-5～-50℃冷冻12～120小时得到钠基蒙脱土冷冻液；2）将步骤1）所得的钠基蒙脱土冷冻液解冻后，进行超声处理，离心去除钠基蒙脱土颗粒，得钠基蒙脱土第二悬浮液；3）将步骤2）制备的所述第二悬浮液经冷冻干燥制得所述超薄蒙脱土纳米片。 |
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