| 专利名称 | 一种非球面镜二次常数测量方法 | 申请号 | CN201410293650.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104034262A | 公开（授权）日 | 2014.09.10 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 吴永前;黄传科;范斌 | 主分类号 | G01B11/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B11/00(2006.01)I;G01B11/255(2006.01)I | 专利有效期 | 一种非球面镜二次常数测量方法 至一种非球面镜二次常数测量方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种非球面二次常数测量方法，属于光电技术检测领域。本测量方法在立式干涉仪内进行，主要测量中心无孔的非球面镜二次常数和顶点曲率半径。该方法首先利用干涉仪找到被测镜面的猫眼位置作为干涉仪初始的位置，然后沿光轴竖直移动干涉，提取干涉仪零条纹的像素半径，由标定的畸变计算出镜面上实际的半径。再由对应的移动距离根据公式算出被测镜面的二次常数和顶点的曲率半径。此方法结构简单，使用灵活，精度高。 |
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