| 专利名称 | 一种基于笼型倍半硅氧烷构建的抗反射涂层及其制备方法与应用 | 申请号 | CN201410209780.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104007491A | 公开（授权）日 | 2014.08.27 | 申请（专利权）人 | 中科院广州化学有限公司 | 发明（设计）人 | 许凯;彭军;邢玉秀;林伟鸿;辛明亮;陈鸣才 | 主分类号 | G02B1/11(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B1/11(2006.01)I;C09D183/08(2006.01)I;C09D151/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种基于笼型倍半硅氧烷构建的抗反射涂层及其制备方法与应用 至一种基于笼型倍半硅氧烷构建的抗反射涂层及其制备方法与应用 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明属于纳米杂化复合材料技术领域，公开了一种基于笼型倍半硅氧烷构建的抗反射涂层及其制备方法与应用。所述抗反射涂层是以十甲基丙烯酰氧丙基笼型倍半硅氧烷和八氨基苯基笼型倍半硅氧烷构建底层反应涂层后预固化；以含氟丙烯酸酯预聚物和八甲基丙烯酰氧丙基笼型倍半硅氧烷构建表层涂层，然后将两层涂层在一定条件下共固化，利用两层涂层的反应体积收缩率的不同引起应力，制备的抗反射涂层具有纳米岛状结构，涂层的抗反射性能得到显著提高，可广泛应用于对抗反射性能有要求的光学器件。 |
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