| 专利名称 | 光学材料光谱测试用低温杜瓦 | 申请号 | CN201420028315.2 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN203772724U | 公开（授权）日 | 2014.08.13 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 发明（设计）人 | 汪洋;陈安森;贺香荣;张亚妮;范广宇;龚海梅 | 主分类号 | G01N21/01(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N21/01(2006.01)I | 专利有效期 | 光学材料光谱测试用低温杜瓦 至光学材料光谱测试用低温杜瓦 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本实用新型公开了一种光学材料光谱测试用低温杜瓦，由内外金属圆筒组成的真空密封容器，在过渡冷头上依次安装杜瓦冷头、测试样品、力学缓冲环和磁性压环组成测试样品固定结构。该结构的优点在于充分利用磁性压环与杜瓦冷头之间的磁性力，将测试样品可靠地固定在杜瓦冷头上，同时力学缓冲环可以很好地缓冲杜瓦冷头和磁性压环之间的磁性力，使杜瓦冷头和测试样品形成良好的热学和力学接触，保持测试样品处于低温，该结构安装和拆卸测试样品简单方便，避免测试样品表面污染和损伤，特别适合于水平光路条件下光学材料的低温透射光谱测试。 |
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