一种制备表面等离子体激元纳米光子器件的方法

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专利名称 一种制备表面等离子体激元纳米光子器件的方法 申请号 CN201410221679.7 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN103955023A 公开(授权)日 2014.07.30 申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 孙海涛;刘琦;吕杭炳;龙世兵;刘明 主分类号 G02B6/13(2006.01)I IPC主分类号 G02B6/13(2006.01)I 专利有效期 一种制备表面等离子体激元纳米光子器件的方法 至一种制备表面等离子体激元纳米光子器件的方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明公开了一种制备表面等离子体激元纳米光子器件的方法,包括:预备硅衬底;在表面形成有氧化硅的硅衬底上生长下电极金属;在下电极金属上旋涂一层光刻胶,热板烘烤,并采用掩膜对光刻胶进行曝光,然后显影,在光刻胶层形成通孔阵列,在通孔中露出光刻胶层下的下电极金属;在通孔中沉积氧化物层;在通孔中蒸发上电极金属;剥离光刻胶及光刻胶上的氧化物层和上电极金属,露出下电极金属,得到表面具有凸起阵列的器件;在凸起的上电极金属上加正电压,将下电极金属接地,在电场激励下使得在凸起的氧化物层内部形成金属纳米颗粒的链条,得到表面等离子体激元纳米光子器件。利用本发明,解决了目前纳米光子器件尺寸大、制备复杂成本高的问题。

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