| 专利名称 | 复合型孔道核孔滤膜及其制备方法 | 申请号 | CN201410146804.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103933876A | 公开（授权）日 | 2014.07.23 | 申请（专利权）人 | 中国科学院近代物理研究所 | 发明（设计）人 | 莫丹;刘建德;张胜霞;刘杰;袁平;曹殿亮;姚会军;段敬来 | 主分类号 | B01D71/48(2006.01)I | IPC主分类号 | B01D71/48(2006.01)I;B01D69/00(2006.01)I;B01D67/00(2006.01)I | 专利有效期 | 复合型孔道核孔滤膜及其制备方法 至复合型孔道核孔滤膜及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种核孔滤膜的制备方法，特别涉及孔道结构由圆锥形和圆柱形孔道组合而成的核孔滤膜。一种复合型孔道结构的核孔滤膜的制备方法，其主要包括以下步骤：采用高能的重离子辐照聚合物薄膜，形成潜径迹；选择具有两种径迹蚀刻速率不同的蚀刻液，分两次对辐照后的聚合物薄膜同一表面进行蚀刻，形成一种新型的锥/柱复合型孔道结构。这种锥/柱复合型孔道具有明显的结构特点：孔道由上下两部分衔接组成，组成部分包括圆柱和圆锥孔道。圆柱孔道利用高径迹蚀刻速率的液体蚀刻加工完成；圆锥孔道利用低径迹蚀刻速率的液体蚀刻加工完成。这种新的孔道设计不仅可以帮助解决小孔径核孔滤膜过滤通量小的技术问题，还有助于解决单层过滤和反复清洗的技术问题。 |
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