硅酸镓镧压电晶体的制造方法及其制品

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专利名称 硅酸镓镧压电晶体的制造方法及其制品 申请号 CN201210593282.1 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN103911662A 公开(授权)日 2014.07.09 申请(专利权)人 中国科学院上海硅酸盐研究所;上海硅酸盐研究所中试基地 发明(设计)人 涂小牛;郑燕青;孔海宽;杨建华;施尔畏 主分类号 C30B29/30(2006.01)I IPC主分类号 C30B29/30(2006.01)I;C30B15/20(2006.01)I 专利有效期 硅酸镓镧压电晶体的制造方法及其制品 至硅酸镓镧压电晶体的制造方法及其制品 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明涉及硅酸镓镧压电晶体的制造方法及其制品,所述方法采用坩埚提拉法生长晶体,包括:在接种工序中,将原料加热至熔化并在高于熔化温度80℃~140℃下保温使熔体稳定,并将籽晶在高于熔化温度10℃~30℃下接触熔体;旋转籽晶并开始提拉生长晶体,其中包括缩颈工序、扩肩工序、等径工序和收尾工序;以及在原位退火工序中,提拉晶体使晶体脱离熔体后保持位置不变并旋转晶体、以10~30℃/h的速率使熔体温度降至1200~1400℃,保持10~30h后以10~30℃/h的速率降至室温。

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