| 专利名称 | 基于X射线几何投影莫尔条纹的精密位移测量装置及方法 | 申请号 | CN201410153744.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103900502A | 公开（授权）日 | 2014.07.02 | 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 吴自玉;王圣浩;王志立;高昆;韩华杰;张灿;杨蒙 | 主分类号 | G01B15/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B15/00(2006.01)I | 专利有效期 | 基于X射线几何投影莫尔条纹的精密位移测量装置及方法 至基于X射线几何投影莫尔条纹的精密位移测量装置及方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种基于X射线几何投影莫尔条纹的精密位移测量装置，该装置包括：同步辐射加速器，用于产生平行同步X射线光；双晶单色器将X射线光转换为单一波长、高准直的平行X射线；X射线垂直照射顺序平行放置的指示光栅和标尺光栅，以产生莫尔条纹；标尺光栅与运动部件连接在一起；X射线探测器，用于探测莫尔条纹并输出相应的电信号；条纹细分和显示装置，用于对X射线探测器输出的电信号进行条纹细分和显示处理。本发明还公开了一种基于X射线几何投影莫尔条纹的精密位移测量方法。本发明能够提高现有光栅莫尔条纹位移测量技术的分辨率和灵敏度，增加两块光栅之间的距离，降低光栅安装过程中的难度，提高系统使用的稳定性和可靠性。 |
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