| 专利名称 | 一种计算机硬盘的化学机械抛光液 | 申请号 | CN201210587505.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103897604A | 公开（授权）日 | 2014.07.02 | 申请（专利权）人 | 上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明（设计）人 | 宋晗;王良咏;刘卫丽;宋志棠 | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I | IPC主分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 专利有效期 | 一种计算机硬盘的化学机械抛光液 至一种计算机硬盘的化学机械抛光液 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及计算机领域，具体涉及一种可有效应用于计算机NiP硬盘的计算机硬盘化学机械抛光液。计算机硬盘化学机械抛光液，为含有氧化剂、研磨粒子、盐类添加剂以及pH调节剂的水溶液；所述盐类添加剂通式为X-R-Y，其中X为阳离子，Y为阴离子，R为直链烃基或其衍生物。通过本发明提供的化学机械抛光浆液，硬盘的抛光速率达到了90nm/min,表面粗糙度较低，硬盘的表面质量和加工效率得到了有效的提高。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障