| 专利名称 | 一种高NA投影物镜 | 申请号 | CN201410155301.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103885159A | 公开（授权）日 | 2014.06.25 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 白瑜;邢廷文;吕保斌;邓超;朱红伟;廖志远 | 主分类号 | G02B13/18(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B13/18(2006.01)I;G02B13/14(2006.01)I;G02B13/00(2006.01)I;G02B17/08(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种高NA投影物镜 至一种高NA投影物镜 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提出了一种高NA投影物镜，用于将掩膜面的图像成像到硅片面内。该高NA投影物镜，由第一单元、第二单元、第三单元、第四单元、第五单元、第六单元、第七单元、第八单元、第九单元和第十单元组成。其中第一单元L1、第二单元L2、第三单元L3、第五单元L5、第八单元L8具有正光焦度，第七单元L7、第九单元L9、第十单元L10具有负光焦度，第四单元L4、第六单元L6为45°放置的平面反射镜。本发明的高NA投影物镜可将物成缩小1/4的像，具有数值孔径大，分辨力高，结构紧凑，成像质量好等优点。 |
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