| 专利名称 | 光刻机曝光系统照明均匀性的校正方法 | 申请号 | CN201410075046.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103885297A | 公开（授权）日 | 2014.06.25 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 朱菁;黄惠杰;曾爱军;杨宝喜;陈明;李璟;王健;魏张帆;张方 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 光刻机曝光系统照明均匀性的校正方法 至光刻机曝光系统照明均匀性的校正方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种光刻机曝光系统照明均匀性的校正方法，该方法是沿光轴方向移动所述的聚光镜组的最后一块透镜，实现矩形照明光斑边缘位置和中心位置相对光强的调节。本发明无需添加额外的光学元件，仅依靠原光刻机曝光系统中已有光学元件的简单移动，即可实现照明均匀性的校正。该方法具有操作方便、不引起光强衰减的特点。适用于任何紫外光波段的光刻机曝光系统。 |
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