| 专利名称 | 一种原位光学检测装置 | 申请号 | CN201210545135.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103868850A | 公开（授权）日 | 2014.06.18 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 解婧;李超波;夏洋 | 主分类号 | G01N21/01(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N21/01(2006.01)I;G01N21/65(2006.01)I;G01N21/63(2006.01)I | 专利有效期 | 一种原位光学检测装置 至一种原位光学检测装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开一种原位光学检测装置，应用于原子层沉积设备，包括光学测试系统和光学镜头配套组件，光学测试系统设置在原子层沉积设备的反应腔室外部，光学镜头配套组件包括镜头腔和设置在镜头腔内的光学镜头、转角组件和光学镜头延长管，转角组件两端分别连接光学镜头和光学镜头延长管；光学测试系统通过光学组件与光学镜头延长管连接，形成测试光路；镜头腔通过第一法兰组件固定在反应腔室的侧壁上。本发明可进行光学无损检测，并且可以在光学原位检测的辅佐下控制薄膜初始生长阶段的模式。同时，在原子层沉积系统中，可进一步的设计和开发新的人工改性半导体材料，为各种高质量、具有特异性能的二维薄膜的制备，提供有力的理论及实验基础。 |
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