基于氮的双受主共掺氧化锌薄膜的制备方法

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专利名称 基于氮的双受主共掺氧化锌薄膜的制备方法 申请号 CN201210530522.3 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN103866265A 公开(授权)日 2014.06.18 申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 卢维尔;夏洋;李超波;解婧 主分类号 C23C16/40(2006.01)I IPC主分类号 C23C16/40(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I 专利有效期 基于氮的双受主共掺氧化锌薄膜的制备方法 至基于氮的双受主共掺氧化锌薄膜的制备方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明公开基于氮的双受主共掺氧化锌薄膜的制备方法,其包括:将基片放入原子层沉积设备的反应腔室中;进行多组分的复合沉积;所述复合沉积包括在锌源沉积之前引入一次As掺杂源的沉积和氧源沉积之前引入一次氮掺杂源的沉积;循环沉积该多组分复合体,得到原子层沉积制备的N-As的双受主共掺的氧化锌薄膜。本发明提供的基于氮的双受主共掺氧化锌薄膜的制备方法,利用ALD技术,在氧化锌薄膜生长的过程中,完成整个薄膜结构的共掺,得到N-As双受主的共掺。本发明制备工艺简单,沉积和掺杂过程易于控制,制备所得共掺氧化锌薄膜有利于氧化锌薄膜的p型掺杂和提高p型电学性质的稳定性。

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