一种高载流子浓度的超薄AZO透明导电薄膜及其制备方法

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专利名称 一种高载流子浓度的超薄AZO透明导电薄膜及其制备方法 申请号 CN201410011278.9 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN103866253A 公开(授权)日 2014.06.18 申请(专利权)人 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 发明(设计)人 杨晔;王木钦;黄金华;兰品军;宋伟杰 主分类号 C23C14/35(2006.01)I IPC主分类号 C23C14/35(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C14/58(2006.01)I;H01B5/14(2006.01)I 专利有效期 一种高载流子浓度的超薄AZO透明导电薄膜及其制备方法 至一种高载流子浓度的超薄AZO透明导电薄膜及其制备方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明公开了一种高载流子浓度的超薄AZO透明导电薄膜及其制备方法,该超薄AZO透明导电薄膜从下至下依次包括基片、锌层和AZO层,锌层和AZO层的总厚度小于120nm,其中锌层的厚度为2~10nm,AZO层的厚度为35~100nm。本发明中采用磁控溅射法在基片上沉积得到锌层和AZO层,并对沉积后的薄膜进行快速特退火,通过设定退火条件,使锌层中的锌原子渗透进入AZO层并形成Zni缺陷,从而提高载流子浓度,且在锌层和AZO层的沉积过程中沉积温度不高于200℃,节省生产能耗,降低了生产成本,提高了生产效率,适用于工业生产。本发明的超薄AZO透明导电薄膜的电阻率为13~3.8×10-4Ω·cm,载流子浓度为5.0~13.8×1020cm-3,380~800nm,平均透过率(含基片)为70~88%。

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