| 专利名称 | 一种石墨烯纳米带及其制备方法和在透明电极中的应用 | 申请号 | CN201210495439.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103848415A | 公开（授权）日 | 2014.06.11 | 申请（专利权）人 | 国家纳米科学中心 | 发明（设计）人 | 智林杰;何海勇;王杰 | 主分类号 | C01B31/04(2006.01)I | IPC主分类号 | C01B31/04(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I;G02F1/155(2006.01)I | 专利有效期 | 一种石墨烯纳米带及其制备方法和在透明电极中的应用 至一种石墨烯纳米带及其制备方法和在透明电极中的应用 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供了一种石墨烯纳米带的制备方法，该方法包括以下步骤：（1）将含有可纺高分子的溶液或熔融体通过静电纺丝沉积于石墨烯薄膜上形成掩模板；（2）将没有被所述掩模板覆盖的石墨烯薄膜上的石墨烯刻蚀掉；（3）将所述掩模板去除形成石墨烯纳米带；本发明还提供了由上述方法制备的石墨烯纳米带及其在透明电极中的应用。该方法具有工艺简单、成本低和易于大规模制备等优点，而且该方法制备得到的石墨烯纳米带的长度、宽度、厚度以及形态可控。 |
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