| 专利名称 | 一种护圈装置及研磨头 | 申请号 | CN201320865754.4 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN203622179U | 公开（授权）日 | 2014.06.04 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 刘宏伟;陈岚 | 主分类号 | B24B37/34(2012.01)I | IPC主分类号 | B24B37/34(2012.01)I;B24B37/32(2012.01)I;B24B37/11(2012.01)I | 专利有效期 | 一种护圈装置及研磨头 至一种护圈装置及研磨头 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型公开了一种护圈装置，用于化学机械研磨设备的研磨头，包括：固定环，用于固定套设于所述研磨头的上盖盘或保持环上；设置于所述固定环上的万向轮装置，所述万向轮装置至少为两个，且用于与所述化学机械研磨设备的研磨垫接触。本实用新型提出的护圈装置一旦在CMP工艺设备中得到应用，不仅具有节约成本、优化工艺和提高芯片良率的预期效果，同时可以有效推进代工企业的技术改造能力，增强工艺线的精细化制造能力。本实用新型还公开了一种具有上述护圈装置的研磨头。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障