| 专利名称 | 一种大视场高数值孔径的i-line光刻机投影物镜 | 申请号 | CN201410076527.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103837967A | 公开（授权）日 | 2014.06.04 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 刘俊伯;高洪涛;陈铭勇;朱咸昌;胡松;马驰飞;程依光 | 主分类号 | G02B13/18(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B13/18(2006.01)I;G02B13/22(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种大视场高数值孔径的i-line光刻机投影物镜 至一种大视场高数值孔径的i-line光刻机投影物镜 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种大视场高数值孔径的i-line光刻机投影物镜，其采用了双远心、25片4组结构，其中使用了5个低阶非球面来平衡像差。物镜的像方有效视场为132×132mm，像方数值孔径可以达到0.17。经过面型优化和微调后，能有效地解决国内现有大面积平板光刻设备的分辨率低、图像传递能力差的问题。 |
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