| 专利名称 | 一种纳米级的铝刻蚀方法 | 申请号 | CN201410048607.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103789768A | 公开（授权）日 | 2014.05.14 | 申请（专利权）人 | 国家纳米科学中心 | 发明（设计）人 | 徐丽华;董凤良;苗霈;宋志伟;闫兰琴;褚卫国 | 主分类号 | C23F1/12(2006.01)I | IPC主分类号 | C23F1/12(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I;B82Y20/00(2011.01)I | 专利有效期 | 一种纳米级的铝刻蚀方法 至一种纳米级的铝刻蚀方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种纳米级的铝刻蚀方法。所述方法包括采用利用0℃以下的低温控制工艺的刻蚀工艺，及清洗工艺。本发明采用的低温刻蚀工艺，能有效地控制反应速率，并且能稳定地控制铝的纳米级关键尺寸、刻蚀深度及侧壁垂直度。 |
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