| 专利名称 | 基于受激光发射损耗的激光直写曝光装置 | 申请号 | CN201410029950.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103777473A | 公开（授权）日 | 2014.05.07 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 朱菁;黄惠杰;杨宝喜;宋强;张方;王键;陈明;李璟 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 基于受激光发射损耗的激光直写曝光装置 至基于受激光发射损耗的激光直写曝光装置 | 法律状态 | 著录事项变更 | 说明书摘要 | 一种基于受激发射光损耗激光直写曝光装置，其特点在于其构成包括激发光源、退激发光源、第一空间光调制器、第二空间光调制器、二分之一波片组、二向色镜、相位型波带片、振幅型波带片、高数值孔径消色差物镜和三维扫描平台。本发明可实现高分辨、长焦深的光学曝光。 |
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