| 专利名称 | 铜冶炼过程发射光谱分析系统的导入光学装置 | 申请号 | CN201320686772.6 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN203573019U | 公开（授权）日 | 2014.04.30 | 申请（专利权）人 | 合肥金星机电科技发展有限公司;中国科学院合肥物质科学研究院;金隆铜业有限公司 | 发明（设计）人 | 吴华峰;高闽光;王锋平;张玉钧;李相贤;刘文清;常国涛;宋修明;吴文明 | 主分类号 | G02B17/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B17/02(2006.01)I;G01N21/25(2006.01)I | 专利有效期 | 铜冶炼过程发射光谱分析系统的导入光学装置 至铜冶炼过程发射光谱分析系统的导入光学装置 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本实用新型涉及光学系统设计领域，特别涉及一种铜冶炼过程发射光谱分析系统的导入光学装置，包括设置在镜筒内的透镜、平面反射镜以及反射镜，所述的透镜布置在镜筒前段或中段位置处，光线自镜筒的前端进入，镜筒的后端布置所述的平面反射镜，平面反射镜将经过透镜聚集的光线反射至透镜一侧，透镜靠近平面反射镜的一侧或透镜的周边相邻布置所述的反射镜用于接收平面反射镜反射的光线，反射镜相对应位置处的镜筒筒壁上开设通孔用于布置光纤。入射光线依次经过透镜、平面反射镜、反射镜后聚焦在光纤上输出，通过巧妙布置各镜片位置，使得镜筒长度和能量损失均减小。 |
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